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    MOCVD加熱器

           MOCVD技術は族、族元素の有機化合物とV、族元素の水素化物などを結晶體成長の源材料として、熱分解反応によって基板で気相エピタキシーを行い、多種のⅢ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體及びその多元固溶體の薄層単結晶材料の技術である。

    • 製品の概要
    • 製品モデル
    • 參考文書
             MOCVD設備はMOCVD技術を核心とする。その內、MOCVD加熱器は加熱システムの最も主要な部分である。加熱器內の反射板は高溫で変形しにくく、純度が高く、高溫でガス不純物を放出しないなどの特性が求められる。PBNは反射板にとって一番理想的な材料であり、現在には博宇PBN絶縁板は知名度のあるブランドの加熱器で応用されてよい実績がある。

                                 PBN 絕緣板

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